【48812】东京电子未来五年豪掷 15 万亿日元方针成为全国际第一半导体设备制作商

时间: 2024-07-20 01:22:57 |   作者: 小九直播杏彩体育

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  IT之家 7 月 1 日音讯,据台媒《经济日报》报导,东京电子 TEL 宫城子公司总裁神原弘光近来表明,该企业将在 2025~2029 财年出资 1.5 万亿日元(IT之家补白:当时约 679.83 亿元人民币),并新招募一万名职工。

  东京电子此番大规划出资意在成为全国际第一大半导体设备制作商,1.5 万亿日元的金额也是东京电子上个五年周期出资额的 1.8 倍。

  东京电子财年周期为上一日历年 4 月至当日历年 3 月,其 2024 财年半导体制作设备销售额为 18305 亿日元(当时约 829.62 亿元人民币),现在具有 18236 名职工。

  东京电子声称其是国际第四大半导体设备制作商,排在 ASML(2023 年营收约合 2171.78 亿元人民币)、使用资料(2023 年营收约合 1930.79 亿元人民币)和泛林之后。

  从细分类别来看,东京电子在涂布显影、气体化学蚀刻、分散炉、批量堆积四类设备上是全球市占第一,在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜堆积、探针台四类设备上也是市占第二。

  其间,东京电子在与 ASML High-NA EUV 光刻机配套的高导向性电浆(等离子)蚀刻设备上处于彻底独占位置,而其探针台也是 CoWoS 和共封装光学 CPO 等先进封装的关键设备。

  现在生成式 AI 服务器加快速度进行开展,相关逻辑与存储芯片需求提高,带动晶圆厂向东京电子等设备厂商追加下单,AI 使用相关设备营收已达东京电子全体销售额三成。

  此外全球数字转型加快、半导体制程微缩继续推动。这一些要素一起效果,给了东京电子活跃扩展营运规划以完成用户需求的决心。

  东京电子宫城子企业具有全球最大的等离子蚀刻设备制作基地,也出产用于三星电子 3nm、台积电 2nm 工艺的涂布显影设备,正着手开发 1nm 级以下等级的涂布显影设备。

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